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普乐斯15年专注等离子清洗机研制低温等离子表面处理系统方案解决商

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我国半导体市场现状或将呈现整合态势

特别是IC设计，由于进入门槛相对较低，又有产业政策和资金的支持，使得IC设计及相关服务公司的数量快速增长。来自于中国半导体行业协会的统计显示：到2018年，全国共有1698家IC设计企业，...

实验型小型等离子表面处理设备是什么样的？

实验型小型等离子表面处理设备的共性特点是比较小巧，一般使用在大学院校及实验室居多，普乐斯就以为大家整理出实验型小型等离子表面处理设备的一些特点、参数以及应用的方向，供大...

12英寸集成电路项目落户江苏无锡

据锡山发布报道，此次吉姆西半导体投资建设的集成电路先进制程技术及装备研发制造项目计划分两期建设，一期投产时间预计为2021年第1季度，二期建设时间为2023年~2025年，项目建成达产后，...

等离子刻蚀在晶圆和线路板领域的使用

一、晶圆制造行业应用在晶圆制造行业中光刻机利用四氟化碳气体进行硅片的线路刻蚀，等离子清洗机利用四氟化碳进行氮化硅刻蚀及光刻胶去除。等离子刻蚀利用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧气配合的方式可对晶圆制造中的氮化硅进行微米级的刻蚀，利用四氟化碳与氧气或氢气配合的方式可对微米级的光刻胶进行去除。二、线路板制造行业应用等离子清洗机的刻蚀在线路...

等离子表面刻蚀常用四氟化碳？

等离子清洗机的功能主要包括清洗、活化、接枝（沉积）及刻蚀，实现这些功能除对放电方式和电极结构有要求外，工艺气体的选择也是非常重要的，特别是等离子表面刻蚀功能。四氟化碳是实现刻蚀功能的一种常规气体。一、等离子刻蚀为什么常用四氟化碳刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相等离子体与物体...