普乐斯资讯_普乐斯电子

普乐斯15年专注等离子清洗机研制低温等离子表面处理系统方案解决商

普乐斯首页 > 普乐斯资讯 >

等离子表面处理的精细环保体现在哪？能处理哪些？

现代工业中，对表面微污染物的要求越来越高，有些甚至表面不能残留纳米级的颗粒。因为污染物体积小、成分复杂且通常表面要求不能存在有机残留，这时等离子表面处理的作用就愈发体现出来。等离子清洗机所产生的等离子体能够将有机污染物分子链打断，使分子结构中的元素与基体脱离，脱离后的元素与等离子体中的自由基发生化学反应，进行分子重组，形成无害气体排...

与其他传统清洗方式相比，等离子体清洗有什么区别和特点

等离子体清洗是一种去除吸附在表面外来的非不可或缺材料的清洁过程，附着的材料可能会对产品的工艺流程及性能造成不良影响，简而言之就是将某些不需要的材料清除干净，表面清洗是先进制造业必不可少的工艺步骤。行业不同，那么所清洗的产品及清洗目的也是完全不同的，它们都有各自特定的洁净标准，有一般要求也有高精度的要求。等离子体清洗已经被大量的应用于表...

宝马计划将有动作，在2022年前在德裁减6000个就业岗位

据《经理人杂志》（Manager Magazin）报道，作为节省成本措施的一部分，宝马计划2022年之前在德国裁减多达6000个就业岗位。其中裁减的大部分岗位将会是来自于其德国慕尼黑总部，而该裁员计划...

等离子清洗机在处理对象和操作方式上与超声波清洗机有何区别

等离子清洗机是由国外引入到国内的，Plasma或电浆机也是它的叫法之一，其是通过等离子体对所需处理的材料进行清洗和处理，与超声波清洗机不同的是，两者在处理的对象和操作方式等方面，...

容易混淆的等离子清洗机与超声波清洗机有什么区别

清洗机是一个宽泛设备范围，高压清洗机、干冰清洗机、超声波清洗机、等离子清洗机等都可划分到清洗机的行列，然而对刚接触的小伙伴来说，很难将设备的名称与其功用及特点对应起来，今...

台积电宣布研发2nm工艺，预计四年后投产

在台积电目前的工艺规划中，7nm工艺去年已经量产，7nm+第1次引入EUV极紫外光刻技术，目前已经投入量产，6nm只是7nm的一个升级版，明年第1季度将进行试产。 5nm全面导入EUV极紫外光刻，已经开始风险性试产，明年底之前量产，苹果A14、AMD五代锐龙(Zen 4都有望采纳)，之后还有个增强版的N5P工艺。 3nm有望在2021年试产、2022年量产。在3nm之后就要进入2nm工艺了，实际上台积电今年6月份...

MEDTEC 2019-生物医学领域的等离子表面处理工艺应用

随着中国人口老龄化和二胎开放，以及国内yi疗水平的不断提高，我国相关的设备市场正在不断扩大，国产yi疗设备包括进口品牌及相关配套技术的工艺设备都将迎来更好的发展契机。顺应这一...

低温等离子体清洗机设备介绍

一、低温等离子体清洗机的用途与功能低温等离子体清洗机在半导体、汽车制造、生物yi疗、航空航天、精密电子、材料科学等行业都有应用，其主要的用途和功能有：去除灰尘和油污、去静电；提高表面浸润性能，形成活化表面；提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；对材料表面的粗化、刻蚀的处理作用。二、常压式和真空式低温等离子体清洗机 1.常压大气式...

世界沙子或将不够用！ CPU、内存、闪存芯片会涨价吗？

全世界都知道沙子是非常廉价也非常大量的资源，因为沙子主要元素是硅，其在地球表面的元素中储量仅次于氧，含硅量在27.72%，其主要表现形式就是沙子（主要成分为二氧化硅），沙子里面就含有相当量的硅。如果沙子不够用，那我们使用的处理器、闪存、内存等硅基半导体芯片岂不是面临涨价的问题？事实上这个问题还真不用担心，半导体用的硅芯片没有想象中的那么多。...

等离子刻蚀中影响氮化硅侧壁蚀刻倾斜度的参数有哪些？

等离子表面处理系统能够完成表面清洗、活化、刻蚀以及涂镀等诸多功能，依据所需处理的材料与处理的目的，等离子表面处理系统能够完成不同的处理效果。等离子表面处理设备在半导体方向的使用有等离子刻蚀、显影、去胶、封装等。等离子刻蚀工艺在半导体集成电路中，既能够刻蚀上表层的光刻胶，也能够刻蚀基层的氮化硅层，不仅如此还需要防止其对硅衬底造成刻蚀损...