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普乐斯15年专注等离子清洗机研制低温等离子表面处理系统方案解决商

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台积电宣布研发2nm工艺，预计四年后投产

在台积电目前的工艺规划中，7nm工艺去年已经量产，7nm+第1次引入EUV极紫外光刻技术，目前已经投入量产，6nm只是7nm的一个升级版，明年第1季度将进行试产。 5nm全面导入EUV极紫外光刻，已经开始风险性试产，明年底之前量产，苹果A14、AMD五代锐龙(Zen 4都有望采纳)，之后还有个增强版的N5P工艺。 3nm有望在2021年试产、2022年量产。在3nm之后就要进入2nm工艺了，实际上台积电今年6月份...

MEDTEC 2019-生物医学领域的等离子表面处理工艺应用

随着中国人口老龄化和二胎开放，以及国内yi疗水平的不断提高，我国相关的设备市场正在不断扩大，国产yi疗设备包括进口品牌及相关配套技术的工艺设备都将迎来更好的发展契机。顺应这一...

低温等离子体清洗机设备介绍

一、低温等离子体清洗机的用途与功能低温等离子体清洗机在半导体、汽车制造、生物yi疗、航空航天、精密电子、材料科学等行业都有应用，其主要的用途和功能有：去除灰尘和油污、去静电；提高表面浸润性能，形成活化表面；提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；对材料表面的粗化、刻蚀的处理作用。二、常压式和真空式低温等离子体清洗机 1.常压大气式...

世界沙子或将不够用！ CPU、内存、闪存芯片会涨价吗？

全世界都知道沙子是非常廉价也非常大量的资源，因为沙子主要元素是硅，其在地球表面的元素中储量仅次于氧，含硅量在27.72%，其主要表现形式就是沙子（主要成分为二氧化硅），沙子里面就含有相当量的硅。如果沙子不够用，那我们使用的处理器、闪存、内存等硅基半导体芯片岂不是面临涨价的问题？事实上这个问题还真不用担心，半导体用的硅芯片没有想象中的那么多。...

等离子刻蚀中影响氮化硅侧壁蚀刻倾斜度的参数有哪些？

等离子表面处理系统能够完成表面清洗、活化、刻蚀以及涂镀等诸多功能，依据所需处理的材料与处理的目的，等离子表面处理系统能够完成不同的处理效果。等离子表面处理设备在半导体方向的使用有等离子刻蚀、显影、去胶、封装等。等离子刻蚀工艺在半导体集成电路中，既能够刻蚀上表层的光刻胶，也能够刻蚀基层的氮化硅层，不仅如此还需要防止其对硅衬底造成刻蚀损...

氮化硅有何特点？等离子表面处理设备是如何刻蚀氮化硅的？

氮化硅（Si3N4）的材料特点：氮化硅是当前较为热门的新材料之一，具有密度小、硬度大、弹性模量高、热稳定性好等特点，在诸多范畴都有使用。在晶圆制作中，氮化硅可代替氧化硅使用，因其硬度高，可在晶圆外表形成十分薄的氮化硅薄膜（在硅片加工中，使用zui为广泛的描绘薄膜厚度的单位是埃），厚度约在数十埃，保护外表，防止划伤，此外其杰出的绝缘强度和抗氧化才...