如下图所示，是在同样的电流条件下，射频微等离子体鞘层区与等离子体区的分布比例。在给定电流密度0.06A/cm2，当放电间隙慢慢增加，通过实验和计算都表明鞘层开始慢慢增加，而当极板间隙增加多于500μm后，鞘层厚度基本保持在215μm不变。而对于等离子体区的厚度，其从100μm到900μm一直在单一性提升，普乐斯等离子清洗机介绍。
通过上图能够知道的是，当放电间隙小于500μm时，放电等离子体由传统的辉光放电结构转化为一种鞘层主导的结构，即鞘层成为放电空间的主要部分。同时，数值模拟还显示，在鞘层主导的放电结构中，一整个放电空间无法保持电中性，而是呈现为电正性，如下图所示。
要是想在射频微等离子中继续获得正常的辉光结构，保障放电间隙内的电中性，提高放电频率是一种可行的方法。下图给出了在不同频率下两个周期电子密度的时空分布。图中显示，当频率为13.56MHz时，仅仅在电极附近才有大量的电子，其密度近似3.06×1011cm-3。
而当频率增加到27.12MHz时，产生的3.15×1011cm-3的电子密度在极板间由于外加电压的改变来回振荡，从一个极板到另一个极板，基本占据了一整个间隙。由于频率进一步增加到54.24MHz，在放电间隙产生的高密度电子，形成一个稳定的中性等离子体区。这些数据表明，由于频率的提升，放电结构也发生了变化，传统的辉光结构也能够产生。
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