【普乐斯】真空等离子清洗设备半导体等离子表面处理机 PM/R-80LN

产品简介

品牌：普乐斯

名称：真空等离子清洗设备半导体等离子表面处理机

型号： PM/R-80LN

用途：适合于材料表面清洁、活化

产品特点

v触摸屏操作界面
v数字及图标多重工艺参数实时显示
v三色灯异常报警功能
v自动/手动操作模式切换
v可存储多套工艺配方
v远程操控，数据砸导出（可选）
v模块多样化选择，多层托架可选，处理量大
v外观设计专利201930499619.5
v软件著作权 2019SR0011225

产品参数

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型号		PM-80LN	PR-80LN
控制系统	控制方式	全自动控制（自动/手动切换）
		PLC（标配）/PC（可选）
	操作系统	Windows 10
	触摸屏	7寸
整机规格	尺寸	W850×D1100×H1700mm
腔体	尺寸	W450×D400×H450mm
	材质	铝合金（标配）/不锈钢（可选）
电极	尺寸	W440×D317mm
	层数	1-8层，可选
托架	材质	铝合金（标配）/不锈钢（可选）
	层数	1层
真空计	皮拉尼式真空计	1个
流量计	MFC质量流量控制器	2个；Ar、N₂、O₂（可选）
真空泵	机械油式旋片泵	1套
发生器	中频/射频	40KHz，0~1000W	13.56MHz，0~500W
额定功率	整机峰值功率	4KW
机台供电	三相五线式	AC-380V
选购品	干式泵、气浴电极（打孔）、托架、接枝气化仪、防腐密封、腔体加热、加热盘、温度传感器、H₂安全阀、慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、水冷电极、冰水机、模温机、非标法兰、陶瓷紧固件

注：以上参数仅供参考，本公司可能对相关产品参数进行调整，如有变动，恕不再另行通知。若有不明处，欢迎来电询问。

工作原理

在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，等离子清洗设备利用高频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢、四氟化碳等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的等离子体，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化等目的。如图所示：