为了方便描述等离子表面处理设备的这两种化学反应过程,普乐斯将用化学反应方程式来表示其反应的过程,下述反应式中的英文字母具有不同的含义。大写字母A、B、C、D、M代表不同物质;小写字母s、g则分别代表物质固体形态和气体形态。
一、反应式为A(s)+B(g)→C(g)的反应和工艺应用
这一类的等离子表面处理设备的处理工艺应用上,目前较为成熟的有等离子体刻蚀即PE、等离子体灰化即PA、等离子体化学气相输运即PCVT。那么这三类工艺有哪些实际应用呢?
1.等离子体刻蚀
等离子刻蚀在半导体集成电路制程中使用较多,通常会选用腐蚀性四氟化碳气体与其他气体混合后,经辉光放电后与固体材料部分位置发生反应,形成挥发性物质并去除。
2.等离子体灰化
等离子体灰化常见于半导体干法工艺中用以光刻胶的去除,通常使用氧等离子体,将有机物中的碳氢成分形成易挥发的二氧化碳和水等。而在分析化学领域中,采用等离子体灰化可对有机物样品进行“低温”灰化,方便对剩下的无机物成分进行所需分析。
3.等离子体化学气相输运
这一类型的反应中所生成的气体物质C会在反应器的另一端发生逆向反应,让A重新析出。
二、反应式为A(s)+B(g)→C(s)的反应和工艺应用
从反应式我们可以看出,这一类的反应指等离子表面处理设备与固体材料表面作用生成新的化合物,使材料表面性质发生改变,这一类反应也是大家应该较为熟悉的等离子表面改性。当等离子表面改性对金属表面进行处理时,就是金属的表面氧化或氮化;而等离子表面改性是对高分子材料表面处理时,就是材料表面处理。
普乐斯电子10年专注研制等离子清洗机,等离子体清洗机,等离子清洗设备,常压大气和低压真空型低温等离子表面处理设备,大气低温等离子体表面处理系统,大气常压收放卷等离子表面处理设备,已通过ISO9001质量体系和欧盟CE认证,为电子、半导体、汽车、yi疗等领域的客户提供清洗,活化,刻蚀,涂覆的等离子表面处理解决方案,是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问,欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询,或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009,普乐斯恭候您的来电!
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