如果我们在15年前说到等离子清洗机，估计知道的人寥寥无几；慢慢在后来，市场推出了PDP等离子电视，有部分人对“等离子”这个词才有那么一点概念；以至于当普乐斯开始对60后、70后提到等离子清洗机时，他们首先会问是不是等离子电视机。由这个话题开始引入等离子清洗机，也就是因为近些年来，我们经常会看到或者听到关于四大等离子清洗机功能介绍，耳习目染，让大家很容易就把等离子清洗机与等离子去胶机、等离子刻蚀机、等离子增强化学气相沉积、等离子灭菌机等专业设备混为一谈。今天我们普乐斯就想用简单明了的语言来和大家聊聊四大等离子清洗机功能及应用，供大家参考。
等离子清洗机，国外叫法Plasma cleaner，包括低压真空等离子清洗机和常压大气等离子清洗机；行业内讲到的四大等离子清洗机功能，通常是针对低压真空等离子清洗机而言。
1 等离子清洗机主要功能之一：等离子清洗。化学反应为主，减法。
等离子清洗机是以化学反应为主，处理对象大多是有机污染物，常用的工艺气体为氧气。利用氧分子形成的等离子体与材料表面的有机污染物发生化学反应，很容易生成H2O、CO2等挥发性物质气化掉，材料表面不会有任何留存残余物，而且变得非常干净。典型的应用例如：袪除PCB焊盘上肉眼看不到的有机溶剂或者油墨，硅晶圆表面的光刻胶等。以下是8寸晶圆等离子清洗前后水滴角对比图
等离子清洗机处理前水滴角41.28° 等离子清洗机处理后水滴角3.62°
专门用于晶圆光刻胶去除的设备叫作等离子去胶机（Plasma Stripper）、等离子灰化机 （Asher），也属于等离子清洗的范畴，但是电极结构和腔体等方面还是有其鲜明的特点。
2 等离子清洗机主要功能之一：等离子活化。化学反应为主，加法。
等离子活化以化学反应为主，处理对象的表面能比较低，极性比较差的材料。通过等离子体与材料表面发生反应，形成具有亲水性基团或活性物种，以增加表面的浸润性、粘接性等。例如氧等离子体与材料表面反应形成羟基、羧基、羰基等；氮等离子体与材料反应形成氨基等。典型应用有：各种高分子材料、聚合物等。下图是经过等离子表面活化后的聚丙烯（PP）+珠光粉化妆品容器的达因笔测试
与电子束曝光负胶原理相类似，等离子体也会产生紫外光让材料表面发生交联，这也算是比较特殊的一种等离子活化。
普乐斯电子12年专注研制等离子清洗机，等离子体清洗机，等离子清洗设备，常压大气和低压真空型低温等离子表面处理设备，大气低温等离子体表面处理系统，大气常压收放卷等离子表面处理设备，已通过ISO9001质量体系和欧盟CE认证，为电子、半导体、汽车、yi疗等领域的客户提供清洗，活化，刻蚀，涂覆的等离子表面处理解决方案，是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯随时恭候您的来电！
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