随着产品的科技化、精细化工艺要求的发展，某些产品在进行等离子处理中，对真空等离子处理系统的均匀性提出了更高的要求，其实影响真空等离子处理设备的因素众多，如腔体大小、进气方式、电极结构、电源频率、气体流量、功率大小等，任一因素的变化都会对等离子处理的均匀性产生较大的影响，今天普乐斯先向大家介绍一下腔体大小和进气方式对等离子处理均匀性的影响的相关内容。
一、真空等离子处理系统的腔体容积越大，处理的均匀性越难掌握
真空等离子处理系统的真空腔体容积越大，越难掌握其均匀性，相应的，在对电源的选择上要格外慎重。当对产品的均匀性要求较高，且腔体容积要求较大时，我们通常要根据所处理的产品规格、要求、产量、容积等多方面因素，进行产品定制。定制型真空等离子清洗机也需要以事实作为依据，腔体越大所需的RF电源功率就越大，因此如等离子发生器只选用13.56MHz的RF电源时，为保证均匀性，腔体容积通常会控制在600L以内。
如果需使用3000W及以上功率，普乐斯会建议搭配美国AE、MKS或其他进口的RF电源，虽然在成本费用上会相对较高，设备运行时更加稳定可靠且均匀性有保障。如果处理的产品对均匀性要求很高，建议使用40KHz的中频电源或将真空腔体控制在100L以内。
二、前进后排的进出气方式对改善均匀性有帮助
普乐斯经多次对真空等离子处理系统的研究发现，使用前进气后排气的方法，对处理的均匀性相对较好。我们在腔体内的进气管的选择上基本采用铝管，将铝管弯折并焊接成类似方形结构，与此同时在在铝管上开孔，开孔位置以两层电极板中间位置为佳，这样可保证腔体内每层处理空间都有独立的进气口。如下图所示：
此外，在针对一些腔体容积较大的设备时，其进气结构需要进行一些改动和调整，当然这些改动和调整需要根据腔体的具体大小和结构来决定，以下所示的是其中一种结构：
以上关于真空等离子处理系统的均匀性和腔体容积和进气方式之间关联性的相关内容。普乐斯电子9年专注研制等离子清洗机，等离子表面处理设备，已通过ISO9001质量体系和欧盟CE认证，为电子、半导体、汽车、yi疗等领域的客户提供清洗，活化，刻蚀，涂覆的等离子表面处理解决方案，是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
【普乐斯】半导体封装真空等离子表面处理设备-VPC-500F
【普乐斯】常压射流型等离子清洗机设备 PTS-2D
【普乐斯】UVLED面光源-UVLED固化机-UVLED光源
【普乐斯】JC2000P型便携式接触角测量仪
【普乐斯】大气常压收放卷等离子表面处理设备
射流等离子清洗机喷嘴
【普乐斯】聚合物大气等离子清洗机设备-PG-1000ZG
【普乐斯】氮气宽幅等离子处理设备 PG-110LNLN
【普乐斯】等离子清洗机仪器PM/R-T5LN01
【普乐斯】EPDM低温等离子表面处理机-PG-1000ZE