普乐斯等离子清洗机引用TechWeb、网易科技相应内容，据了解，ASML所正研发的第3款极紫外光刻机预计将于2021年中开始出货。
据了解，荷兰ASML在其三季度的财报中指出，其新款光刻机预计将在2021年年中开始出货的，新款光刻机的生产效率约将有18%的提升，在30mJ/cm2的曝光速度下每小时可处理的晶圆数可达160片。如果这款光刻机与ASML之前2019年的年报中提及的新光刻机为同一款的话，那么ASML的新款光刻机的出货时间，就较原计划提前约半年。
ASML的极紫外光刻机对先进芯片制程工艺的重要性就不用多说了，台积电和三星这两的7nm和5nm工艺，都必须依靠ASML的EUV光刻机，预计新款EUV光刻机出货后，也将由台积电和三星先开始使用。
此外，ASML目前的两款EUV光刻机，都是采用的波长为13.5nm的极紫外光源，在20mJ/cm2的曝光速度下，其每小时的晶圆处理量分别能达125片和170片。
本文来源：TechWeb、网易科技
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普乐斯从2011年开始涉足半导体行业至今已有9年，专注研制等离子清洗机，等离子体清洗机，等离子清洗设备，常压大气和低压真空型低温等离子表面处理机，在光刻胶去除、打线即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工艺方面积累了较为丰富的等离子表面处理经验，合作客户接近20家，我们正努力成为半导体封装领域的等离子表面处理工艺解决方案服务商。是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。等离子表面处理过的样品包括：硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架等。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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