本发明涉及电浆机技术领域,尤其涉及一种半导体电浆机。半导体等离子机也叫等离子刻蚀机。等离子蚀刻是最常见的干蚀刻形式。其原理是暴露在电子区的气体形成等离子体,产生的电离气体和高能电子组成的气体被释放,从而形成等离子体或离子。当电离的气体原子被电场加速时,它们会释放出足够的力来紧紧地附着在材料上或蚀刻表面。目前,半导体电浆机需要在真空环境下进行刻蚀,但现有电浆机密封效果差,导致空气中的氧化气体进入电浆机,导致半导体表面刻蚀不均匀,使用不方便。鉴于此,我们提出一种半导体电浆机。
本发明的目的是提供一种半导体等离子电浆机,以解决上述背景技术中提出的半导体电浆机密封效果差的问题。为了实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:一种半导体电浆机,包括电浆机体,所述电浆机体的正面设有显示屏,所述显示屏下方设有控制面板,所述电浆机体的上表面设有通孔,所述显示屏一侧的电浆机体的正面设有蚀刻室, 通孔与蚀刻室连通,电浆机体的上表面设有真空泵。 真空泵通过第一螺栓与电浆机体的上表面固定连接;真空泵的输出端设有排气管;排气管的一端通过通孔伸入蚀刻室;滚筒安装在等离子机体下表面的四个角上。排气管与通孔的连接处设有法兰,法兰上设有多个第二螺栓,法兰通过第二螺栓与电浆机体的上表面固定连接。法兰与通孔的连接处设有垫圈。矩形塞的横截面尺寸与矩形槽的尺寸相匹配,矩形塞通过矩形槽与空心密封垫相插配。仓门的正面设有窗户。门靠近显示屏的一侧设有弧形凹槽,电浆机体的正面与气缸紧密焊接,气缸的一端与转轴紧密焊接,转轴上设有限位器,限位器的一端设有圆孔,另一端与限位柱紧密焊接。转轴穿过圆孔,挡块通过转轴与气缸转动连接。限位柱通过弧形槽与仓门滑动连接。弧形槽的中心角度设置为90-120度。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:仓门关闭后,通过转轴转动限位器,使限位器一端的限位柱滑入弧形槽的另一端,限位柱在蚀刻仓的开启位置扣合仓门,使限位柱对仓门起到一定的限位作用,从而实现仓门的关闭;同时,矩形塞通过矩形槽与中空密封垫插入配合,提高仓门与刻蚀仓连接处的密封效果,防止空气中的氧化气体进入刻蚀仓,提高半导体表面的刻蚀均匀性,解决半导体电浆机密封效果差的问题。