物理清洗：表面作用以物理反应为主的等离子体清洗，也叫溅射腐蚀（SPE）。我们以Ar来说明等离子清洗机的化学反应。
例：Ar＋e- →Ar＋＋2e- Ar＋＋沾污→挥发性沾污
Ar＋在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能，然后轰击在放在负电极上的被清洗工件表面，工件表面的污染物被轰击后，游离在腔体内部，然后经过真空泵抽出腔体外部。一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物。
例：Ar＋e- →Ar＋＋2e- Ar＋＋沾污→挥发性沾污
Ar＋在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能，然后轰击在放在负电极上的被清洗工件表面，工件表面的污染物被轰击后，游离在腔体内部，然后经过真空泵抽出腔体外部。一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物。
化学清洗:表面作用以化学反应为主的等离子体清洗，又称PE。
例1：O2＋e- →2O*＋e- O*＋有机物→CO2＋H2O
从反应式可见，氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。
例2：H2＋e- →2H*＋e- H*＋非挥发性金属氧化物→金属＋H2O
从反应式可见，氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层，通常用于清洁金属表面，在清洗过程中避免金属氧化。
例1：O2＋e- →2O*＋e- O*＋有机物→CO2＋H2O
从反应式可见，氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。
例2：H2＋e- →2H*＋e- H*＋非挥发性金属氧化物→金属＋H2O
从反应式可见，氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层，通常用于清洁金属表面，在清洗过程中避免金属氧化。
在正常的清洗过程中物理清洗与化学清洗时同时存在的，可以根据具体要求选择不同的工艺气体。
普乐斯电子9年专注研制等离子清洗机，等离子表面处理设备，已通过ISO9001质量体系和欧盟CE认证，为电子、半导体、汽车、yi疗等领域的客户提供清洗，活化，刻蚀，涂覆的等离子表面处理解决方案。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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