半导体等离子清洗设备定制

文章导读：半导体等离子清洗机器主要由等离子体发生器、反应室、真空系统、气体输送系统、控制系统等组成。等离子体发生器产生等离子体，气体输送系统将气体输送到反应室中，等离子体与气体发生化学反应和物理反应，清洗半导体器件表面的污染物。真空系统则是为了保证反应室内的气压和温度稳定。