表面清洁:等离子处理可以去除晶圆表面的有机污染物、氧化物等不纯物质,确保表面清洁,提高后续工艺的精度和可靠性。
提高结合力:通过等离子轰击晶圆表面,可以增加表面的粗糙度,同时对表面进行改性,从而提高基材与沉积膜层的结合力。
改善润湿性:等离子处理可以增加表面的极性基团,提升材料的亲水性,改善润湿性,有助于后续工艺的进行。
双腔体等离子处理机主要用于晶圆表面等离子处理是一种通过等离子体对晶圆表面进行改性的技术,具有高效、环保等优点,广泛应用于半导体制造、先进封装等领域。
表面清洁:等离子处理可以去除晶圆表面的有机污染物、氧化物等不纯物质,确保表面清洁,提高后续工艺的精度和可靠性。
提高结合力:通过等离子轰击晶圆表面,可以增加表面的粗糙度,同时对表面进行改性,从而提高基材与沉积膜层的结合力。
改善润湿性:等离子处理可以增加表面的极性基团,提升材料的亲水性,改善润湿性,有助于后续工艺的进行。
型号 | PLAUX-JY-60LS |
主机尺寸 | W1150×D100×H1800 mm |
主机重量 | 500Kg |
额定功率 | AC380V 约5KW |
设备颜色 | 白色 |
真空腔体尺寸 | W300×D300×深度600 mm |
进气管路配置 | 2路进气 |
操作系统 | 中文系统 触摸屏 |
真空泵系统 | 双极旋片泵组 |
电极结构 | 水平平板电极 |
工作真空度 | 20-60pa |
抽真空能力 | 空载60秒以内抽到30pa以内 |
破空时间 | 20-40秒 |
气体控制系统 | 电磁阀控制 |
等离子发生器 | 0-600W可调 |
等离子清洗是通过等离子体的作用来去除晶圆表面的污染物和残留物。等离子体是一种高能离子,具有很强的化学反应性和机械作用力。当等离子体与晶圆表面接触时,会发生化学反应和物理作用,从而去除表面的污染物和残留物。
半导体制造:在光刻工艺之前,等离子处理可以去除有机污染物和氧化层,提高光刻的分辨率和精度。
先进封装:在凸块工艺、再布线层工艺、硅通孔工艺、键合及解键合工艺中,等离子处理用于表面活化,提高焊接牢固性,减少封装分层等问题。
存储器件:在制作闪存和DRAM等存储器件时,等离子处理可以改善硅片表面的电学性质,提升器件的性能和稳定性。
传感器和光电器件:等离子处理可以调节硅片的表面能和化学性质,提高传感器的灵敏度和光电器件的转换效率。