普乐斯品牌的国产等离子清洗机是如何被半导体客户接受的呢？
文章导读：半导体行业近些年发展比较迅猛，这对国产半导体设备既是机遇，又是挑战；无论是用于制作晶圆的等离子刻蚀机，还是用于封装的等离子清洗机，国产化也都是大势所趋！
等离子刻蚀技术的突破成为“中国芯”的强有力后盾，国产等离子清洗机自然也不会落后。从2011年开始，普乐斯与国内知名晶圆封装企业合作，正式进入半导体制造行业。那时我们国产设备只能为晶圆的生产提供基础的清洗服务，比如去除晶圆表面的有机污染物；听到更多的言论是对国产设备不认可。的确是这样，那时的我们对这个行业也不够了解，没有一定的技术积累，中高端的芯片生产企业也不敢去冒这个风险。
因为有着这份信念，普乐斯一直在为“成为高端芯片制造行业的国产等离子清洗机服务商”而努力。功夫不负有心人，前面提到的那家晶圆封装企业在扩产时再次选择普乐斯，让普乐斯参与到了更多的生产工艺中，从前段的硅片清洗到后段的光刻胶残留去除，在芯片制造的整个流程，都选择了普乐斯的国产等离子清洗机，打破了进口设备的垄断。
在之后，普乐斯有幸与更多的芯片制造企业合作。普乐斯的设备先后被多家国内知名的半导体分立器件、电力电子元器件等半导体生产企业采用，被用于4寸及6寸晶圆的较厚光刻胶底膜的去除，成功取代了进口等离子清洗机。感谢客户对我们的信任与支持，让我们在芯片制造行业积累了大量的经验，普乐斯的国产等离子清洗机也被越来越多的芯片制造企业接受。
目前，普乐斯已经与国内多家新建芯片制造相关企业合作，为更高端的“中国芯”提供着等离子表面出来服务。我们听到越来越多的是：国产等离子清洗机真的很棒了、处理效果完全超出了我们的预期之类的赞扬，不再像以前那样一介绍就被人否定了。
贸易战涉及的争夺5G的主导权问题，其中RF MEMS是5G通信的关键芯片之一，由于这种芯片结构的特殊性，芯片制作完成后残余的光刻胶无法用湿式法去除，理想的方式是通过等离子清洗的方式进行去除。由于光刻胶较厚，去除的工艺条件非常苛刻，任一参数调整不好都会造成整片报废，普乐斯是少有的能解决这一工艺难题的国产等离子清洗机厂家。
能为中国的5G事业做出贡献，普乐斯感到非常的荣幸与自豪。相信会有越来越多的国产等离子清洗机进入到“中国芯”的产业中，补齐我们的短板，摆脱国外的束缚。加油！
亲，如果您对等离子清洗机感兴趣或者想了解更多详细信息，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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