普乐斯关注并看好芯片制造的巨大潜力
文章导读：根据IC Insight的报告，中国是全球最大的半导体市场，预计到2024年将占据全球半导体市场的40%，与此同时，预计在2024年，中国市场所使用芯片的国产化率将达到20.7%。在普乐斯看来，这两组数据充分说明了中国芯片市场，特别是芯片制造市场的巨大潜力。
根据IC Insight的报告，中国是全球最大的半导体市场，预计到2024年将占据全球半导体市场的40%，与此同时，预计在2024年，中国市场所使用芯片的国产化率将达到20.7%。在普乐斯看来，这两组数据充分说明了中国芯片市场，特别是芯片制造市场的巨大潜力。
在过去发展的数十年当中，全球半导体产业发生了许多变化。其中，晶圆代工厂的崛起使得半导体行业的制造中心向亚洲转移。近些年来，芯片制造这一话题备受业界关注，而，与芯片制造相关的半导体材料、半导体设备等方面的发展均受到了业界的关注。这些领域被业界视为是半导体上游市场，也是芯片制造的关键，对于材料和设备的发展而言，过滤、分离市场则是这些领域的一个重要组成部分。
众所周知，光刻是半导体行业的关键技术驱动力，包括 DUV 光刻胶，顶部和底部抗反射涂层，浸没式光刻的应都推动了工艺的进步。但在这个过程当中，每个步骤都有可能在晶圆表面引入有害颗粒污染、微气泡空隙缺陷和金属污染。这就使得光刻胶制造商需要粗滤过滤器和终端用户使用的终端分配过滤器，来防止非预期颗粒在半导体芯片制造过程中沉积到晶圆表面。
此外，芯片制造过程中所采用的其他材料也会影响最终晶圆生产的良率。其中包括了对晶圆表面平整度的要求的提升，因此，也促生了对CMP抛光材料的需求。而过滤器则是抛光系统中重要的一部分——一般情况下，半导体抛光系统内通常需要3个浆料过滤器，用以去除较大的研磨颗粒，并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成，实现许多不同半导体工艺性能的最大化。
对于半导体设备本身来说，化学品对设备的侵蚀同样也需要过滤器来保障其使用寿命。控制流体发生污染会导致设备关机，甚至会影响生产效率，因此污染控制是半导体器件制造中最重要的问题之一。而过滤器则可将流体污染物降至最低，避免关键零件遭到破坏，确保机台以峰值效率进行工作。
在这种势头之下，中国半导体产业的成长也为普乐斯带来新的发展机会。改革开放40年来，中国已经在诸多领域实现了从量变到质变的突破，同时中国早已成为全球最大的电子消费品市场，全球最大的电子产品生产制造中心，在政策引导、资金支持、终端推动，三大合力之下，中国必将成为全球半导体产业的中坚力量。
本文来自于半导体行业观察，
如有侵权，请联系管理员，我们将予以删除！
普乐斯电子12年专注研制等离子清洗机，等离子体清洗机，等离子清洗设备，常压大气和低压真空型低温等离子表面处理设备，大气低温等离子体表面处理系统，大气常压收放卷等离子表面设备处理，已通过ISO9001质量体系和欧盟CE认证，为电子、半导体、汽车、yi疗等领域的客户提供清洗、活化、刻蚀、涂覆的等离子表面处理解决方案，是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯随时恭候您的来电！
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此外，芯片制造过程中所采用的其他材料也会影响最终晶圆生产的良率。其中包括了对晶圆表面平整度的要求的提升，因此，也促生了对CMP抛光材料的需求。而过滤器则是抛光系统中重要的一部分——一般情况下，半导体抛光系统内通常需要3个浆料过滤器，用以去除较大的研磨颗粒，并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成，实现许多不同半导体工艺性能的最大化。
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