铜引线框架清洗效果受等离子清洗机的这些因素影响
文章导读：此前，普乐斯向大家介绍了铜引线框架即铜支架的等离子清洗效果受铜支架自身材质、质量、规格，以及料盒等方面的影响。其实等离子清洗机对铜引线框架的处理效果也受等离子清洗机的一些因素影响较大。
由于当前大气常压等离子清洗机对铜引线框架的处理工艺尚未在处理温度、氧化及二次污染等方面取得突破，因此，在目前铜支架的等离子表面处理中，所使用的等离子处理设备还是以低压真空型等离子清洗机为主。根据处理形式、电极结构以及放电特性，处理铜支架的真空等离子清洗设备又分为料盒式（批量式、独立式、离线式）等离子清洗机和在线式（连线式、连续式）等离子清洗机。
用于铜支架清洗的料盒式等离子清洗机，其真空腔体内部一般由多组电极构成，单次可处理4-16个料盒的铜引线框架。优点是产能大，但是等离子处理的均匀性不够好，所测量的水滴角度数相对偏高。
在线式等离子清洗机对铜支架清洗，其真空腔室内部通常设计的是上下两层电极，单次仅可处理2-6片铜引线框架。与料盒式等离子处理设备相比，在线式的设备处理的均匀性更好，测量的水滴角度数也小，但是产能较小。
上述的处理方式和电极结构会对等离子清洗处理的效果产生影响，此外，生产工艺和等离子清洗处理的相关参数控制其实也非常重要，工艺和参数的熟练把控，就需要大量的时间和精力去学习、摸索。
普乐斯从2011年开始涉足半导体行业至今已有9年，专注研制等离子清洗机，等离子体清洗机，等离子清洗设备，常压大气和低压真空型低温等离子表面处理机，在光刻胶去除、打线即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工艺方面积累了较为丰富的等离子表面处理经验，合作客户接近20家，我们正努力成为半导体封装领域的等离子表面处理工艺解决方案服务商。是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。等离子表面处理过的样品包括：硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架等。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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