普乐斯资讯 / 等离子百科

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1819-09

影响等离子表面处理效果的设备的工艺参数有哪些？ 普乐斯的等离子表面处理设备在多种领域、多类材料上都有应用，不同的材料及工艺要求，对等离子表面处理的效果也会有所不同，您可能有过了解，等离子表面处理的一个突出特征就是处理产...
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1619-09

常见的等离子表面处理机有哪些？ 等离子表面处理机在诸多工业和实验领域都有使用，刚一接触的小伙伴来说，往往不知道常见的等离子表面处理机的具体型号。业内所说的常压大气型设备和低压真空型设备就是根据放电形成等...
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1219-09

肉眼难辨？来看看等离子表面处理前后区别吧！ 等离子体是一种物质的聚集态，具有较高的能量密度和活性；等离子表面处理工艺是利用等离子体的特性，对材料表面进行表面纳米级处理，从而达到理想处理目的的一项表面处理工艺。那么既...
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1119-09

等离子清洗设备在半导体封装有哪些应用？ 半导体的器件在生产过程的工序中几乎都有清洗这一步骤，其目的是彻底清除器件的表面微粒、有机物和无机物杂质，从而提高产品质量。随着行业的发展和技术的进步，干式的等离子清洗工艺，已经在半导体封装领域得到广泛应用，接下来就为大家介绍等离子清洗设备究竟在半导体封装的哪些具体的领域或工艺上有所应用。半导体封装领域所用的等离子清洗设备可分为独立式...
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1019-09

接触角测试仪是什么？在哪些行业有应用？ 不同的液体接触固体后会产生不同角度，液滴在不同材料表面形成的角度液不同，这是因为材料本身的亲水性和疏水性不同，接触角测试仪也叫接触角仪、水滴角测量仪、水滴角测试仪、水接...
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0919-09

等离子表面处理去除光刻胶的工艺与设备 晶圆表面光刻胶去除是晶圆制造过程的其中一个环节，是否去除彻底；是否对表面有损伤等因素，都会影响后续的工艺进行，任何一个小缺陷都可能造成晶圆的整片报废。传统去除光刻胶选用的是湿化学方法，随着工艺制程的不断提高，湿化学方法的缺点愈发显现出来，如反应不能精准控制，清洗不彻底，容易引入杂质等。而作为干式方法的晶圆级封装等离子表面处理可控性强...
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0519-09

实验型等离子清洗机真空泵控制方式 大学院校和科研机构经常会选用实验型等离子清洗机，为保证实验的测试效果，选择真空型的等离子清洗机较多，实验型的真空等离子设备比较小巧、处理效果也比较理想，真空度是保障效果的一大因素，接下来我们一起看看实验型等离子设备的真空泵控制方式。大部分真空等离子清洗机腔体抽空所使用的真空泵有干泵和油泵两种，有的使用单个泵，也有使用泵组的。小型实验...
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0419-09

DBD等离子体实验设备可以处理什么？ DBD等离子体实验设备的工作原理是由工件随传送带电极匀速运动，给电极两端施加高频交流高压，使两电极间的气体电离产生气体弧光放电面形成等离子体区，工件在等离子体区匀速通过，从...
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0319-09

实验型小型等离子表面处理设备是什么样的？ 实验型小型等离子表面处理设备的共性特点是比较小巧，一般使用在大学院校及实验室居多，普乐斯就以为大家整理出实验型小型等离子表面处理设备的一些特点、参数以及应用的方向，供大...
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0219-09

等离子表面刻蚀常用四氟化碳？ 等离子清洗机的功能主要包括清洗、活化、接枝（沉积）及刻蚀，实现这些功能除对放电方式和电极结构有要求外，工艺气体的选择也是非常重要的，特别是等离子表面刻蚀功能。四氟化碳是实现刻蚀功能的一种常规气体。一、等离子刻蚀为什么常用四氟化碳刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相等离子体与物体...