光刻干法去胶设备：等离子清洗机的原理及优势介绍！
文章导读：在光刻工艺中，产品的表面会有底胶以及光刻胶的残留，这就需要好的方式进行清理，不能损伤产品的表面同时要清理的干净而彻底，今天我们介绍的方式就是等离子清洗机，通过等离子体进行表面处理，清洗残胶，效果到底如何呢？
在光刻工艺中，产品的表面会有底胶以及光刻胶的残留，这就需要好的方式进行清理，不能损伤产品的表面同时要清理的干净而彻底，今天我们介绍的方式就是等离子清洗机，通过等离子体进行表面处理，清洗残胶，效果到底如何呢？
一、等离子清洗机去胶工艺原理
等离子清洗机的去胶是一种干式的去胶方法，将产品放入设备中，通过真空泵抽气，让产品处于真空状态下，放入工艺气体进行放单反应，这样就会生成具有活性的等离子体，它与表面的残胶进行反应；光刻胶的基本成分为碳氢化合物，在反应中，这些化合物会消失，并生成一氧化碳、二氧化碳、水等等，这些物质会被真空泵抽走，表面的清洗工作就完成了。
二、等离子清洗机去胶工艺优势
在过去，很多工厂都采用的湿式处理法，但是随着技术不断变革，产品不断升级，处理要求也随之升级，干式法逐步取代了湿式处理；
等离子清洗机的去胶只需气体的参与，无需化学试剂的浸泡，无需烘干，整个处理环保感觉，清洗过程可控性非常强，而且不会对周围环境以及人员造成不良的影响；这种工艺还能够降低成本，提高产品的良品率以及生产效率，所以设备在半导体制程的各类方面都广泛的得到了应用。
去胶工艺在半导体制程中非常重要，清洗的是否干净彻底，对表面是否有损伤等等，都会影响到后续工艺，进而影响整体的生产制造以及性能，对成品率起到重要的影响，一个好的处理工艺能够对产品的影响由此可见，等离子清洗机设备也能够有效的提高公司的利润。
等离子清洗机的去胶是一种干式的去胶方法，将产品放入设备中，通过真空泵抽气，让产品处于真空状态下，放入工艺气体进行放单反应，这样就会生成具有活性的等离子体，它与表面的残胶进行反应；光刻胶的基本成分为碳氢化合物，在反应中，这些化合物会消失，并生成一氧化碳、二氧化碳、水等等，这些物质会被真空泵抽走，表面的清洗工作就完成了。
在过去，很多工厂都采用的湿式处理法，但是随着技术不断变革，产品不断升级，处理要求也随之升级，干式法逐步取代了湿式处理；
等离子清洗机的去胶只需气体的参与，无需化学试剂的浸泡，无需烘干，整个处理环保感觉，清洗过程可控性非常强，而且不会对周围环境以及人员造成不良的影响；这种工艺还能够降低成本，提高产品的良品率以及生产效率，所以设备在半导体制程的各类方面都广泛的得到了应用。
去胶工艺在半导体制程中非常重要，清洗的是否干净彻底，对表面是否有损伤等等，都会影响到后续工艺，进而影响整体的生产制造以及性能，对成品率起到重要的影响，一个好的处理工艺能够对产品的影响由此可见，等离子清洗机设备也能够有效的提高公司的利润。
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