等离子表面处理原理及作用
文章导读：低温等离子体中的粒子能量一般约为几个至十几电子伏特，大于聚合物材料的结合键能（几个至十几电子伏特），完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键，但远低于高能放射性射线，只涉及材料表面，不影响基体的性能。通过这种方面对材料表面进行处理，带来亲水性、疏水性、粘接性、可染色性等多种变化。
等离子表面处理广泛的应用于包装印刷、橡胶制品、玻璃工艺、电线电缆、数码电子、芯片制造、新能源行业、医疗器械等多种行业中。
等离子体表面处理原理
低温等离子体中的粒子能量一般约为几个至十几电子伏特，大于聚合物材料的结合键能（几个至十几电子伏特），完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键，但远低于高能放射性射线，只涉及材料表面，不影响基体的性能。通过这种方面对材料表面进行处理，带来亲水性、疏水性、粘接性、可染色性等多种变化。
等离子体表面处理作用
1. 清洗作用：等离子体产生的离子和自由基能够与表面杂质和污染物进行化学反应和物理反应，形成挥发性物质或被击飞吹走。
2. 改性作用：等离子体产生的高能离子和自由基能够改变材料表面的化学组成和结构，实现表面的化学修饰和物理改性，如提高粘附性、增强耐磨性、增加防腐性等。
3. 沉积作用：等离子体产生的高能离子和自由基能够将气态前驱体化学反应在材料表面上，形成一层薄膜，以改变材料表面的功能和性能。
4. 刻蚀作用：等离子体产生的高能离子和自由基能够对材料表面进行物理刻蚀或化学蚀刻，以形成微细结构和器件。
等离子表面处理就是利用这些作用处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
低温等离子体中的粒子能量一般约为几个至十几电子伏特，大于聚合物材料的结合键能（几个至十几电子伏特），完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键，但远低于高能放射性射线，只涉及材料表面，不影响基体的性能。通过这种方面对材料表面进行处理，带来亲水性、疏水性、粘接性、可染色性等多种变化。
1. 清洗作用：等离子体产生的离子和自由基能够与表面杂质和污染物进行化学反应和物理反应，形成挥发性物质或被击飞吹走。
2. 改性作用：等离子体产生的高能离子和自由基能够改变材料表面的化学组成和结构，实现表面的化学修饰和物理改性，如提高粘附性、增强耐磨性、增加防腐性等。
3. 沉积作用：等离子体产生的高能离子和自由基能够将气态前驱体化学反应在材料表面上，形成一层薄膜，以改变材料表面的功能和性能。
4. 刻蚀作用：等离子体产生的高能离子和自由基能够对材料表面进行物理刻蚀或化学蚀刻，以形成微细结构和器件。
等离子表面处理就是利用这些作用处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
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