等离子清洗机厂商告诉你氧氢氮工艺气体的工作原理
文章导读：等离子体是由导电气体电离产生，对工件表面进行处理，为达到理想的处理效果我们会选用不同的工艺气体，这些气体是如何工作的？工作原理是怎么样的？
作为多年的等离子清洗机厂商，其实常用的工艺气体有氧气 (Oxygen, O2)、氩气 (Argon, Ar)、氮气 (Nitrogen, N2)、压缩空气 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氢气（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）等。今天先向大家介绍通入工艺气体为氧气、氢气、氮气的工作原理。
一、通入气体为氧气的工作原理
氧气是常用的活性气体，属于物理+化学的处理方式，电离后产生的离子体能够对表面进行物理轰击，形成粗糙表面。同时高活性的氧离子能够与被断键后的分子链发生化学反应形成活性基团的亲水表面，达到表面活化的目的；被断键后的有机污染物的元素会与高活性的氧离子发生化学反应，形成CO、CO2、H2O等分子结构脱离表面，达到表面清洗的目的。
氧气是常用的活性气体，属于物理+化学的处理方式，电离后产生的离子体能够对表面进行物理轰击，形成粗糙表面。同时高活性的氧离子能够与被断键后的分子链发生化学反应形成活性基团的亲水表面，达到表面活化的目的；被断键后的有机污染物的元素会与高活性的氧离子发生化学反应，形成CO、CO2、H2O等分子结构脱离表面，达到表面清洗的目的。
二、通入气体为氢气的工作原理
氢气与氧气类似，属高活性气体，可对表面进行活化及清洗。与氧气的区别主要是反应后形成的活性基团不同，同时氢气具有还原性，可用于金属表面的微观氧化层去除且不易对表面敏感有机层造成损坏。所以在微电子、半导体及线路板制造行业使用较广。
三、通入气体为氮气的工作原理
氮气电离形成的等离子体能够与部分分子结构发生键合反应，所以也是一种活性气体，但相对于氧气和氢气而言，其粒子比较重，通常情况会把此气体界定在活性气体氧气、氢气与惰性气体氩气之间的一种气体。在清洗活化的同时能够达到一定轰击、刻蚀的效果，同时能够防止部分金属表面出现氧化。
以上就是普乐斯作为等离子清洗机厂商所整理的工艺气体为氧气、氢气、氮气的工作原理，如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
氢气与氧气类似，属高活性气体，可对表面进行活化及清洗。与氧气的区别主要是反应后形成的活性基团不同，同时氢气具有还原性，可用于金属表面的微观氧化层去除且不易对表面敏感有机层造成损坏。所以在微电子、半导体及线路板制造行业使用较广。
三、通入气体为氮气的工作原理
氮气电离形成的等离子体能够与部分分子结构发生键合反应，所以也是一种活性气体，但相对于氧气和氢气而言，其粒子比较重，通常情况会把此气体界定在活性气体氧气、氢气与惰性气体氩气之间的一种气体。在清洗活化的同时能够达到一定轰击、刻蚀的效果，同时能够防止部分金属表面出现氧化。
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