设备由电源、真空反应室、气体系统、真空系统、电脑控制系统等多个模块组成。
电源也就是等离子发生器,设备的核心部件,用来产生等离子体。
真空反应室是用来处理产品的空间,密封性要做好。
气体系统是控制工艺气体及反应气体的装置。
真空系统控制反应室内部气体压强及流量的装置。
电脑控制系统正泰设备的大脑,控制设备运行、配方等等数据。
清洗事项:注意清洗要点,了解清洗要求,不能将无法处理的产品放置进入,避免污染整个气体系统。
操作事项:设备操作严格安装厂家要求,不要轻易改动气体配方、流量、管道等,以免造成处理失误,造成产品瑕疵。
保养事项:设备在使用过程中,需要定期进行保养维护,密封性、洁净度等,各类配件也需要定期检查。