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等离子清洗机厂家-昆山普乐斯电子科技有限公司

返回列表 来源:普乐斯 浏览: 发布日期:2025-08-25 10:58【
文章导读:等离子清洗机(Plasma Cleaning Machine)是利用等离子体对材料表面进行清洁、活化或改性的设备。其原理基于等离子体中的高能粒子(离子、电子、自由基等)与材料表面发生物理轰击或化学反应,去除污染物(如有机物、氧化物、金属颗粒等),并提高表面能、粗糙度或化学活性。
       等离子清洗机(Plasma Cleaning Machine)是利用等离子体对材料表面进行清洁、活化或改性的设备。其原理基于等离子体中的高能粒子(离子、电子、自由基等)与材料表面发生物理轰击或化学反应,去除污染物(如有机物、氧化物、金属颗粒等),并提高表面能、粗糙度或化学活性。
等离子清洗机
一、工作原理
物理清洗机制

       高能离子(如 Ar⁺)轰击表面,通过动量传递剥离污染物,类似 “原子级喷砂”。
       特点:清洁效率高,适合去除顽固颗粒或氧化物,但可能引入轻微表面损伤。
化学清洗机制

       活性自由基(如 O、H 自由基)与污染物(如碳氢化合物)反应生成易挥发气体(如 CO₂、H₂O),通过真空泵排出。
       特点:选择性强,无损伤,适合有机污染物去除。
物理 + 化学协同机制

       多数场景采用混合清洗,平衡效率与表面保护,如 Ar+O₂混合气体同时实现轰击与氧化反应。
二、关键部件

       等离子体发生系统:通过射频(RF,13.56MHz)、微波或直流电源电离气体。
       真空腔体:容纳工件并维持低压环境(1~100Pa),材质多为不锈钢或石英,确保耐腐蚀性。
       气体供给系统:精确控制气体种类(Ar、O₂、N₂、H₂等)与流量(1~1000sccm)。
       真空抽气系统:由机械泵 + 分子泵组合,实现 10⁻³~10Pa 的真空度。
       控制系统:集成 PLC 或计算机,支持工艺参数(功率、气压、时间)设定与实时监控。
等离子清洗机
三、应用场景
1. 半导体与电子制造

       晶圆清洗:去除光刻胶残留、金属离子污染,提高薄膜沉积附着力(如 ALD 前处理)。
       封装工艺:清洗引线框架、键合区氧化层,改善金线键合强度。
2. 光电与光学器件

       OLED 屏幕:清洗玻璃基板表面有机物,提升像素电极附着力。
       镜头镀膜:活化玻璃表面,增强增透膜与基底的结合力。
3. 材料表面改性

       聚合物处理:改善 PTFE(特氟龙)、PE 等惰性材料的粘接性(表面能从 20mN/m 提升至 50mN/m 以上)。
       金属表面活化:不锈钢、铝合金表面粗化 + 氧化,提高涂层(如油漆、电镀层)附着力。
4. 医疗与生物领域

       医用导管 / 植入物:清洗表面油污并引入羟基(-OH),提升生物相容性。
       生物芯片:活化玻璃表面,增强 DNA 探针固定效率。
四、安全与环保注意事项

       气体安全:使用 H₂、CF₄等易燃易爆或有毒气体时,需配备泄漏检测与通风系统。
       电磁辐射:射频电源需做好屏蔽,操作人员需佩戴防辐射装备。
       废气处理:氟基气体反应生成的 HF 等酸性气体,需通过碱液喷淋塔处理后排放。
等离子清洗机
       等离子清洗机凭借其高精度、无污染、多功能的特点,已成为高端制造领域不可或缺的表面处理工具,其技术发展始终围绕 “更高效率、更低损伤、更智能化” 的方向演进,持续推动半导体、新能源、生物医疗等行业的工艺革新。
       亲,如果您对等离子体表面处理机有需求或者想了解更多详细信息,欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询,或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009,普乐斯恭候您的来电!
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    ‌工艺可控‌:通过调整工作气体种类、压力、功率等参数,可精确控制清洗过程‌。


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